7月17日機鋒資訊，全球光刻機龍頭ASML（阿斯麥）宣布，其研發的全球首臺第二代高數值孔徑（High NA）極紫外光刻機（EUV）TWINSCAN EXE:5200B已完成交付。
此次交付的首臺EXE:5200光刻機買家是英特爾，這臺設備的售價近30億元。
據悉，第二代High NA EUV光刻機采用0.55數值孔徑光學系統，通過雙標線曝光設計，將微縮分辨率提升至8nm級別，較初代0.33 NA EUV設備性能提升70%。其核心參數包括：晶圓吞吐量每小時可處理175片晶圓，較初代High NA機型提升15%；工藝適配性支持2nm以下先進制程，可滿足未來AI芯片、量子計算等高算力需求；結構優化方面，整機重量達180噸，需7架波音747貨機運輸，裝機需250名工程師耗時6個月完成。
盡管ASML在技術上占據領先地位，但第二代High NA EUV光刻機的商業化進程仍面臨很多難題。
2025年第二季度，ASML新增訂單55億歐元，其中EUV設備占比42%（23億歐元）。但區域銷售呈現出“臺積電領跑、三星收縮”的格局。中國臺灣地區以35%的銷售額躍居首位，這與臺積電加速2nm工藝部署密切相關；而韓國市場占比驟降至19%，反映出三星、SK海力士等韓國企業在資本支出上的收縮態勢。
美國對華技術封鎖及關稅政策導致ASML面臨多重風險，包括整機出口關稅、在美制造部件稅費、服務零部件關稅及跨國貿易反制關稅等。ASML CFO戴厚杰透露，若美國對歐洲商品加征30%關稅，EUV光刻機單價將從2.5億歐元漲至3.25億歐元，這將直接推高客戶的采購成本，影響設備的市場推廣。
